Получение принципиально новых характеристик материалов и изделий, особенно при создании искусственных структур, основанных на квантовых эффектах [1-6], невозможно в перспективе без создания новых прецизионных синтетических процессов. Последние в значительной степени связаны с использованием физико-химических приемов формирования поверхности заданного химического состава и строения с атомно-молекулярной точностью.

Одним из перспективных среди химических подходов в области получения низкоразмерных систем является метод молекулярного наслаивания (МН).

• Принципы и синтетические возможности метода молекулярного наслаивания
• Синтез монослоя, химически связанного с поверхностью силикагеля
• Синтез оксидного слоя заданной толщины
• О геометрических соотношениях на поверхности при синтезе хромоксидного слоя